Guangzhou Bekalan Ideal Filem ESD PEEK Kekal dengan kerintangan permukaan 10⁶–10⁹ Ω/sq, rintangan suhu tinggi -200℃ hingga 260℃, gas keluar rendah, lembaran ESD PEEK diubah suai tiub nano karbon untuk chuck vakum wafer, stesen probe, lekapan elektronik. Ketebalan & saiz tersuai tersedia.
Filem ESD PEEK diisi secara dalaman dan diubah suai dengan tiub nano karbon atau karbon hitam ultra-halus dan dihasilkan melalui tuangan penyemperitan atau proses kalendar cermin. Ia menyepadukan prestasi statik-pelesapan yang luar biasa, rintangan suhu tinggi, keteguhan mekanikal, rintangan pembersihan pelarut, kalis api dan rintangan sinaran. Ia digunakan secara meluas dalam pembuatan semikonduktor dan industri tenaga baharu.
Filem PEEK Anti-statik berbeza secara asasnya daripada filem plastik statik-pelesapan bersalut permukaan konvensional. Filem bersalut permukaan adalah kos rendah dan lutsinar, namun salutan anti-statiknya delaminate melebihi 120°C dan gagal sepenuhnya selepas pembersihan pelarut. Filem sedemikian hanya sesuai untuk aplikasi suhu rendah jangka pendek. Sebaliknya, pengisi konduktif dalam filem ESD PEEK tersebar secara seragam dalam matriks PEEK, memberikan prestasi pelesapan statik kekal. Tiada penembusan salutan atau kegagalan anti-statik berlaku semasa penggilap, pembersihan pelarut atau perkhidmatan suhu tinggi jangka panjang.
Guangzhou Ideal mempunyai pakar dalam penyelidikan dan pengeluaran filem PEEK sejak 2014, mengumpul lebih 12 tahun pengalaman industri profesional. Siri filem ESD PEEK kami termasuk jenis gred semikonduktor karbon nanotube (CNT) mewah, gred industri am yang dipenuhi dengan karbon hitam pengalir ultra-halus, dan gred ESD yang diperkukuh gentian karbon.
1. Gred semikonduktor mewah CNT
Tiub nano karbon ialah bahan nanokarbon tiub satu dimensi dengan nisbah aspek ultra tinggi. Rangkaian konduktif tiga dimensi yang berterusan boleh dibentuk dengan pemuatan pengisi yang sangat rendah. Semua tiub nano karbon dikapsulkan sepenuhnya oleh matriks resin tanpa zarah karbon bebas yang dihasilkan. Gred ini sesuai untuk proses ketepatan semikonduktor dengan kebersihan tinggi termasuk pengendalian wafer, operasi stesen probe, sistem ruang vakum dan aplikasi optik.
2. gred perindustrian karbon hitam konduktif ultra-halus
Terdiri daripada zarah karbon sfera yang membentuk rangkaian konduktif melalui sentuhan antara zarah, gred ini menampilkan julat kerintangan permukaan yang stabil 10⁶–10⁹ Ω/sq dengan taburan rintangan seragam dan anisotropi lemah. Pemuatan pengisi yang agak tinggi diperlukan untuk mencapai prestasi ESD yang layak. Penambahan karbon hitam yang berlebihan mengurangkan keliatan filem dan menyebabkan penumpahan karbon akibat geseran dengan kebersihan permukaan yang buruk. Ia tidak boleh digunakan untuk proses wafer semikonduktor mewah dan digunakan terutamanya untuk lekapan elektronik biasa, komponen bateri litium, alatan suhu tinggi dan peralatan kalis letupan am untuk pengeluaran besar-besaran yang menjimatkan kos.
3. gred diperkukuh gentian karbon cincang
Gentian karbon cincang berasaskan PAN menyediakan kedua-dua pelesapan statik dan tetulang struktur, memberikan kekuatan mekanikal yang dipertingkatkan dan rintangan lelasan. Kerintangan permukaannya berjulat dari 10⁴–10⁷ Ω/sq. Had utama ialah anisotropi konduktif yang terbentuk semasa tuangan penyemperitan, mengakibatkan sisihan kerintangan MD/TD sedikit. Gred perdana serba boleh ini digunakan secara meluas untuk pelapik lekapan semikonduktor, gasket suhu tinggi SMT dan alatan bateri litium.
Nota: Tidak semua filem PEEK yang dipenuhi karbon menampilkan prestasi ESD yang layak. PEEK yang kaya dengan karbon CF30 pengisi tinggi menunjukkan kekonduksian yang berlebihan dan tidak boleh digunakan sebagai filem ESD pelesapan statik standard.
Dengan lebih sedekad pengumpulan teknikal, pelaburan peralatan pengeluaran mewah dan sistem kawalan kualiti yang diseragamkan, Guangzhou Ideal telah menyelesaikan titik kesakitan kualiti kritikal dalam pembuatan filem ESD PEEK.
1. Peralatan penyemperitan skru berkembar tersuai dengan konfigurasi skru yang dioptimumkan mengimbangi penyebaran pengisi seragam dan struktur gentian utuh, menghapuskan hanyut kerintangan suhu tinggi dan memastikan kerintangan permukaan yang stabil selepas kitaran haba berulang.
2. Dengan merendahkan ketegangan cengkaman dan nisbah cabutan dan mengguna pakai rawatan penyepuhlindapan kecerunan, kami mengurangkan anisotropi konduktif dan sisihan kerintangan arah dengan berkesan.
3. Penyepuhlindapan kecerunan ketepatan dengan kenaikan suhu yang dikawal ketat dan kadar penyejukan membebaskan tekanan dalaman yang tinggal, dengan ketara mengurangkan lengkokan dan lencongan selepas pemotongan dan pemotongan mati.
4. Pembutiran yang diubah suai disiapkan dalam persekitaran bebas habuk untuk melindungi ikatan antara muka gentian-matriks. Ini menyelesaikan penyahikatan antara muka dan penumpahan karbon akibat geseran, menghalang pencemaran zarah mikro dan calar wafer.
Filem ESD PEEK gred semikonduktor memberikan kerintangan stabil 10⁶–10⁹ Ω/sq untuk nyahcas statik seragam, menghalang pecahan voltan tinggi wafer dan cip IC. Gred separa penebat (10¹⁰–10¹² Ω/sq) penebat keseimbangan dan penindasan statik dengan hanyutan suhu tinggi yang minimum. Filem ini menyokong operasi berterusan pada 260°C dengan turun naik kerintangan dikawal dalam 5%, menghapuskan pengumpulan statik dalam persekitaran vakum.
Filem ESD PEEK menawarkan julat suhu perkhidmatan berterusan dari -200°C hingga 260°C dan rintangan haba jangka pendek sehingga 340°C. Ia kekal tahan retak pada suhu rendah dan tahan kelembutan, aliran haba, ubah bentuk dan lenturan pada suhu tinggi, mengekalkan prestasi dimensi yang stabil di bawah kitaran haba berselang-seli.
Filem ini mempunyai kekuatan tegangan dan koyakan yang tinggi. Spesifikasi ultra-nipis menahan patah dan retak lenturan berulang. Dengan sifat pelincir sendiri, pekali geseran yang rendah dan kadar haus yang rendah, ia memberikan kestabilan struktur jangka panjang yang sangat baik. Ubah bentuk rayapan rendah memastikan tiada keruntuhan struktur untuk gasket dan lapisan filem di bawah tekanan suhu tinggi yang berterusan.
Filem PEEK anti-statik menahan kebanyakan asid kuat, alkali, keton, ester, alkohol dan pelarut pembersih industri, dengan hanya asid sulfurik pekat yang mampu melarutkan substrat PEEK. Menampilkan larut lesap ionik ultra-rendah dan penumpahan zarah yang minimum, filem ini memenuhi piawaian bengkel ultra-bersih Kelas 1 dan Kelas 10 serta mengelakkan pencemaran wafer dan kanta optik.
1. Pembuatan wafer semikonduktor
Sebagai bahan teras untuk proses ketepatan semikonduktor, pelesapan statik kekal filem ESD PEEK, kestabilan suhu tinggi, gas keluar yang rendah dan sifat penumpahan serbuk sifar menjadikannya sesuai untuk pelapik chuck vakum wafer, gasket ESD penebat haba stesen siasatan dan filem pengasingan pembawa wafer.
2. Kepersisan elektronik, PCB dan lekapan ujian
Rintangan suhu tingginya yang luar biasa membolehkan pengeluaran filem penebat ESD untuk lekapan ujian berfungsi suhu tinggi, filem pelindung suhu tinggi FPC, gasket perkakas haba SMT dan komponen penebat acuan elektronik.
3. Bateri litium dan industri tenaga baharu
Filem penebat ESD menghalang litar pintas dan risiko kebakaran yang disebabkan oleh elektrifikasi geseran kepingan elektrod. Filem kalis api, tahan suhu tinggi dan lapisan anti statik digunakan pada peralatan kalis letupan bateri untuk meningkatkan keselamatan operasi keseluruhan.
Punca: Ketiadaan daun penyepuhlindapan kecerunan yang terkunci dalam tekanan sisa di dalam Filem PEEK Anti-statik. Pemprosesan suhu tinggi membebaskan tekanan sisa dan mengendurkan rantai polimer, menyebabkan gelinciran dan pembinaan semula rangkaian konduktif dalaman. Ini mengakibatkan sisihan kerintangan rawak, dengan kawasan tempatan bertukar penebat atau konduktif yang berlebihan.
Punca akar: Ikatan antara muka gentian-matriks yang lemah, bukannya kerapuhan gentian karbon yang wujud.
A. Ricih skru yang berlebihan semasa granulasi meremukkan gentian karbon secara berlebihan dan merosakkan lapisan enkapsulasi resin.
B. Ejen saiz komersil sisa pada gentian karbon mentah menyebabkan penyahikatan antara muka selepas pendedahan suhu tinggi.
Penyelesaian: Keluarkan sisa saiz gentian dan gunakan ejen saiz diubah suai khusus PEEK untuk mengukuhkan ikatan antara muka gentian-matriks dan menyekat serpihan zarah yang disebabkan oleh geseran.
Punca: Gumpalan gentian karbon semasa granulasi membentuk lubang gentian permukaan selepas tuangan. Gentian bertindih pada titik aglomerasi mencipta kawasan mikro kekonduksian tinggi setempat dengan kerintangan yang rendah secara drastik, membawa risiko penyalaan elektrik tempatan.
Kaedah kawalan: Optimumkan parameter granulasi untuk mengimbangi penyebaran pengisi dan pengekalan panjang gentian. Laksanakan pemeriksaan kerintangan melintang berbilang titik merentasi keseluruhan lebar filem, bukannya hanya menguji bahagian kepala dan ekor gulungan.
1. Keluk suhu penyepuhlindapan tidak layak.
2. Ketegangan belitan yang berlebihan mendorong tekanan simpanan sisa. Walaupun rata apabila pemeriksaan kilang, filem itu secara beransur-ansur meledingkan apabila tekanan dalaman dilepaskan semasa penyimpanan.
Penyelesaian: Gunakan parameter penggulungan tegangan rendah yang disesuaikan untuk filem tolok nipis; parameter standard untuk filem 0.3–0.5mm tidak berkenaan.
1. Kami mengguna pakai bahan mentah PEEK anti-statik ketulenan tinggi yang bersumberkan antarabangsa dan menggabungkannya dengan teknologi pembuatan proprietari matang. Filem ESD PEEK kami mengelakkan kecacatan tempatan yang disebabkan oleh penggumpalan zarah karbon, termasuk zon rintangan rendah setempat dan titik mati penebat. Penyerakan pengisi yang lemah dengan mudah mencetuskan kerosakan elektrostatik tempatan dan litar pintas di stesen kerja pelanggan, mengakibatkan pembaziran kelompok dan kerugian ekonomi yang besar.
2. Filem ESD PEEK kami menampilkan ketepatan dimensi tinggi dan tekanan dalaman ultra-rendah, menahan lenguhan dan pengecutan di bawah berbasikal suhu tinggi. Dengan penyebaran statik-pelesapan seragam dan pembelauan zarah sifar, bahan menghalang detasmen zarah mikro hitam dalam persekitaran vakum suhu tinggi, dengan berkesan mengelakkan pencemaran wafer dan kanta optik serta risiko pengurangan hasil.
3. Perbezaan rintangan antara arah mesin dan arah melintang pada gulungan filem yang sama adalah minimum. Sisihan kerintangan keseluruhan dalam satu gulungan dan antara kelompok yang berbeza dikawal ketat dalam satu susunan magnitud.
4. Kami menyediakan gred kerintangan tersuai, ketebalan Filem dan saiz slitting untuk pelanggan semikonduktor global, elektronik ketepatan dan aeroangkasa. Pelanggan boleh menyerahkan lukisan produk, parameter suhu operasi dan keperluan kerintangan permukaan. Pasukan kejuruteraan kami akan menyampaikan laporan prestasi bahan yang lengkap dan sebut harga terus kilang dalam masa 24 jam.
A1. PEEK yang tidak diisi tulen memberikan prestasi penebat yang sangat baik dengan kerintangan permukaan sehingga 10¹⁴ Ω/sq. Ia dengan mudah mengumpul cas statik, yang boleh merosakkan komponen ultra ketepatan seperti wafer dan cip IC. Filem PEEK yang diubah suai ESD berkesan menghilangkan elektrik statik sambil mengekalkan sepenuhnya semua sifat mekanikal, haba dan kimia yang unggul bagi resin PEEK tulen.
A2. Tidak. Penumpahan zarah berpunca daripada ikatan lemah pada serat karbon dan antara muka matriks resin, yang terbentuk semasa perumusan huluan dan granulasi. Penggilapan dan pembersihan seterusnya hanya boleh mengeluarkan serbuk karbon terapung permukaan, tetapi tidak boleh membaiki kecacatan antara muka dalaman. Geseran masih akan menyebabkan penumpahan zarah selepas penggunaan jangka panjang.
A3. ESD PEEK yang dipenuhi gentian karbon berkualiti tinggi membentuk rangkaian konduktif dalaman yang stabil tanpa penuaan atau pereputan prestasi. Tidak seperti filem anti-statik bersalut permukaan, sifat pelesapan statiknya adalah kekal. Walau bagaimanapun, jika antara muka gentian-matriks rosak, pengumpulan serpihan akibat geseran berterusan akan mengubah prestasi ESD tempatan.
A4. ESD PEEK yang diisi gentian karbon mempamerkan anisotropi konduktif yang wujud disebabkan oleh orientasi aliran gentian semasa penyemperitan. Menguji hanya satu arah tidak dapat mengesan prestasi dalaman yang tidak normal. Pemeriksaan produk siap mesti termasuk ujian kerintangan arah mesin (MD) dan arah melintang (TD) untuk mengawal anisotropi dan mengelakkan ketidakkonsistenan kualiti kelompok untuk pelanggan.
A5. Semasa pengacuan tuangan, gentian karbon menjajarkan sepanjang arah aliran bahan, mewujudkan anisotropi konduktif semula jadi. Toleransi yang layak industri membenarkan perbezaan kerintangan sehingga satu susunan magnitud antara aliran dan arah melintang. Sisihan yang melebihi dua susunan magnitud dianggap sebagai tidak layak. Oleh itu, kedua-dua kerintangan arah mesti diuji semasa pemeriksaan masuk.
A6. Mengikut piawaian industri, bahan PEEK dengan ketebalan ≤ 0.5mm ditakrifkan sebagai filem ESD PEEK, biasanya dihasilkan dan dibekalkan dalam bentuk gulungan berterusan. Bahan dengan ketebalan ＞ 0.5mm dikelaskan sebagai kepingan ESD PEEK, dihasilkan melalui pengacuan plat pepejal. Kedua-dua kategori mengamalkan proses pembentukan dan pengeluaran yang berbeza.
